20211022-东吴证券-电子行业研究报告_IDM_or_Fabless__is_that_a_question__26页_2mb
报告摘要
电子行业研究报告总结
核心内容
本报告探讨了半导体产业中IDM(集成器件制造)与Fabless(无晶圆厂)两种商业模式的演变历程,分析了它们在半导体产业发展不同阶段的角色和优势,并结合行业趋势提出了投资建议。
主要观点
- IDM模式:在半导体产业初期(1947-1984年)是主流,因为设计和制造工艺高度依存,需要整合资源进行产品开发。
- Fabless模式:随着半导体制造成本上升,Fabless成为初创公司的优选模式,通过外包制造环节实现降本增效。
- Foundry模式:随着半导体产品出货量增加,Foundry应运而生,凭借规模效应和标准化工艺成为晶圆代工市场的主力。
- 模式演进:IDM与Fabless的分工模式体现了半导体产业在不同发展阶段的特征,IDM适合设计与工艺高度耦合的领域,而Fabless则更适用于需要快速迭代和成本控制的场景。
- 算力下沉:从大型机到PC、再到智能手机,算力逐渐从企业级下沉到个人层面,推动了半导体产品的普及与创新。
- IP的兴起:IP(知识产权)成为Fabless模式的重要支撑,降低了设计门槛,促进了半导体产业分工。
关键信息
半导体产业模式演变
- IDM模式:在1947-1984年是主流,代表企业包括英特尔、德州仪器、仙童等。
- Fabless模式:1984年Xilinx的创立标志着Fabless模式的开始,后于1987年台积电的成立推动Foundry模式的发展。
- Foundry模式:1987年台积电成立,随后成为晶圆代工市场的核心,具备规模效应和成本优势。
技术发展与产品演进
- 1947年晶体管的发明开启了半导体产业进程。
- 1948年结型晶体管成为半导体产品的基础。
- 1952年扩散工艺、1955年光刻工艺、1960年外延工艺等相继出现,构成半导体制造工艺的基本要素。
- 1959年平面工艺和MOSFET的发明,为集成电路和分立器件的发展奠定了基础。
- 1963年CMOS电路技术提出,成为逻辑电路的基础。
- 1967年非挥发存储器的发明,成为EPROM、EEPROM和Flash的基础。
- 1968年DRAM的发明,成为内存的标准形态。
- 1979年IGBT的构想为电力电子应用奠定基础。
- 1980年NOR Flash的发明,1987年NAND Flash的发明,成为非易失性存储技术的基础。
市场趋势与投资建议
- 市场趋势:半导体产业从IDM模式向Fabless+Foundry模式演变,推动了全球分工和产业生态的成熟。
- 投资建议:
- 重点推荐:卓胜微、斯达半导、恒玄科技、全志科技。
- 建议关注:韦尔股份、格科微、士兰微、时代电气、中芯国际、华虹半导体。
- 风险提示:
- 市场需求不及预期。
- 新品推出不及预期。
- 客户开拓不及预期。
表格摘要
表1:相关公司盈利预测及估值
| 代码 | 公司 | 总市值 (亿元) | 收盘价 (元) | EPS(元) | PE(元) | 投资评级 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 300782 | 卓胜微 | 1100.48 | 329.92 | 5.96, 6.05, 8.48 | 55, 55, 39 | 买入 |
| 603290 | 斯达半导 | 641.76 | 401.10 | 1.15, 2.11, 3.05 | 349, 190, 132 | 买入 |
| 688608 | 恒玄科技 | 301.08 | 250.90 | 1.65, 4.05, 6.11 | 152, 62, 41 | 买入 |
| 300458 | 全志科技 | 216.04 | 65.27 | 0.62, 1.67, 2.42 | 105, 39, 27 | 买入 |
| 603501 | 韦尔股份 | 2192.40 | 252.26 | 3.12, 5.29, 6.91 | 81, 48, 37 | - |
| 688728 | 格科微 | 814.14 | 32.58 | 0.34, 0.59, 0.85 | 96, 55, 38 | - |
| 600460 | 士兰微 | 860.97 | 60.80 | 0.05, 0.71, 0.91 | 1216, 86, 67 | - |
| 688187 | 时代电气 | 778.93 | 55.00 | 2.11, 1.69, 2.04 | 26, 33, 27 | - |
| 688981 | 中芯国际 | 4409.33 | 55.79 | 0.55, 1.05, 1.13 | 101, 53, 49 | - |
| 1347.HK | 华虹半导体 | 435.91 | 33.52 | 0.49, 0.80, 1.00 | 74, 42, 34 | - |
表2:1947-1987年发明的半导体基础技术
| 年份 | 半导体产品 | 意义 |
|---|---|---|
| 1947 | 晶体管 | 开启半导体产业进程 |
| 1948 | 结型晶体管 | 更优异的性能和更适合规模化制造 |
| 1952 | 扩散工艺 | 掺杂的关键工艺 |
| 1955 | 光刻工艺 | 图形化关键工艺 |
| 1950s | 沉积工艺 | 制备薄膜的关键工艺 |
| 1959 | 平面工艺 | 多层平面加工的基本思路 |
| 1959 | MOSFET | 集成电路、分立器件的基本构成单元 |
| 1959 | 集成电路 | 开启集成电路产业进程 |
| 1960 | 外延工艺 | 制备薄膜的关键工艺 |
| 1963 | CMOS | 逻辑电路的基础 |
| 1963 | 运算放大器 | 开启模拟电路产业进程 |
| 1967 | 非挥发存储器 | EPROM、EEPROM和Flash的基础 |
| 1968 | DRAM | 内存的标准形态 |
| 1979 | IGBT | 高频、高压电力电子应用的基础 |
| 1980 | NOR Flash | 非易失性固态存储技术 |
| 1987 | NAND Flash | 非易失性固态存储技术 |
图表摘要
图1-图44
- 图1-图3:展示了IDM的概念、半导体IDM企业、关键结构、工艺和产品,以及MOSFET的结构设计和加工工艺。
- 图4-图6:呈现了半导体商业模式、Fabless和Foundry企业的兴起,以及Apollo制导计算机的微逻辑门。
- 图7-图10:展示了晶体管在军事、航空航天和消费场景的应用,以及早期消费电子产品如助听器、收音机和计算器的演进。
- 图11-图15:呈现了摩尔定律、计算机的发展历程和算力下沉的趋势。
- 图16-图22:展示了半导体产品公司数量、晶圆产线成本、IP市场的发展及Fabless与IDM的对比。
- 图23-图39:呈现了Foundry模式的兴起、台积电的制程升级历程,以及Fabless+Foundry的正反馈效应。
- 图40-图44:展示了Fabless+Foundry的协同效应、全球化分工模式及全球前十大半导体公司的发展历程。
总结
本报告全面回顾了半导体产业中IDM与Fabless模式的演变,指出随着算力下沉和市场需求的扩大,Fabless+Foundry模式成为主流。同时,IDM模式在某些领域仍具有不可替代的作用。报告还对相关公司进行了盈利预测与估值分析,并提出了重点投资标的和风险提示,为投资者提供了详实的参考依据。
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