深度报告-20220628-西部证券-拓荆科技-688072.SH-首次覆盖_国产薄膜沉积设备破局者_上市开启新征程_36页_1mb

拓荆科技深度研究总结

核心内容概览

拓荆科技是一家专注于高端半导体设备研发、生产、销售和技术服务的高科技企业，主要产品包括PECVD、ALD和SACVD设备，产品型号接近10余款，下游客户覆盖中芯国际、华虹集团、长江存储等国内一线晶圆厂商。公司自2010年成立以来，深耕薄膜沉积设备领域十余年，凭借技术实力和产品性能，成为国内薄膜沉积设备龙头。

主要观点

• 产品布局全面：公司布局三大产品系列（PECVD、ALD、SACVD），覆盖16种不同工艺，产品广泛应用于逻辑、DRAM、3D NAND及先进封装领域。
• 营收高速增长：2017-2021年公司营收年均复合增速达44.3%，2021年营收同比增长73.99%至7.58亿元。
• 技术领先，研发投入高：公司重视研发投入，研发费用率高于同行业可比公司，核心技术处于国际先进水平。
• 国产替代先锋：在SACVD和ALD设备领域，公司是国内外稀缺标的，国产化率持续提升，未来有望成为重要增长点。
• 客户集中度高：公司主要客户集中于中芯国际、华虹集团和长江存储等晶圆厂，2021年前三季前五大客户营收占比达92.44%。
• 产业化加速：公司产品逐步进入产业化应用阶段，未来随着产能释放和市场拓展，有望实现快速增长。
• 募投项目推动产能扩张：2022年科创板上市募集资金22.73亿元，主要用于高端设备扩产、技术研发和ALD设备研发与产业化。

关键信息

产品与市场

• PECVD设备：公司核心产品，拥有6个型号，覆盖16种工艺，应用于180-14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM及64/128层FLASH制程工艺，本土主要产线覆盖率超15%。
• SACVD设备：国内唯一实现产业化应用的集成电路SACVD设备厂商，已覆盖长江存储、华虹集团等客户，主要产线设备覆盖率合计达25%。
• ALD设备：受益于先进制程推进，市场需求加速增长，预计2025年全球市场规模将达32亿美元，公司已布局多个型号，技术储备丰富。

财务数据

投资建议

• 预计公司2022-2024年营收分别为12.82/18.88/24.96亿元，归母净利润分别为1.24、2.25、3.38亿元。
• 给予2022年17倍PS估值，对应股价为172.3元/股，首次覆盖，给予“增持”评级。

风险提示

• 下游客户验证不及预期
• 竞争加剧
• 部分关键零部件存在“卡脖子”风险

产品矩阵与客户情况

PECVD设备

• 公司核心产品，覆盖16种工艺，应用于180-14nm逻辑芯片、DRAM、FLASH及先进封装领域。
• 主要型号包括PF-300T、PF-200T等，2021年营收占比约89.1%。
• 客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储等国内一线晶圆厂。

SACVD设备

• 国内唯一实现产业化应用的SACVD设备厂商，已覆盖长江存储、华虹集团、燕东微电子等客户。
• 主要型号为SA-300T和SA-200T，2021年营收占比为11.31%。

ALD设备

• 市场规模持续增长，预计2025年全球市场规模将达32亿美元，年复合增速达14.7%。
• 公司已有3个型号，包括PE-ALD、FT-300T、FT-300H等，满足55-14nm逻辑及128层以上3D NAND制造需求。
• 在研Thermal ALD设备，满足28nm以下芯片制造所需工艺需求。

公司发展与市场前景

• 技术突破：公司核心技术处于国际领先水平，覆盖PECVD、ALD和SACVD设备，多项性能指标追平国际水平。
• 客户拓展：客户集中度较高，但随着产品矩阵丰富和市场拓展，预计客户集中度将逐步降低。
• 行业前景：全球晶圆产能加速导入，半导体设备供不应求，预计2022年全球半导体设备市场规模将达1143亿美元，行业持续高景气。
• 国产替代：随着国内晶圆厂扩产和对国产设备接受度提高，公司有望在国产替代中获得显著增长。

产业化与产能扩张

• 产能瓶颈：随着产品逐步放量，产能瓶颈显现，公司通过募投项目进行产能扩张。
• 募投项目：2022年科创板上市募集资金22.73亿元，用于高端设备扩产、技术研发与改进及ALD设备研发与产业化。

人员与研发

• 研发团队：研发人员占比近44.06%，公司高度重视研发，研发投入持续增加。
• 专利数量：截至2021Q3，公司已获授权专利174项，其中境内153项，境外21项，国内外发明专利合计98项。

行业背景与市场趋势

• 全球晶圆产能增长：2021年全球12寸晶圆产能增长10%，预计2022年继续增长11%，2023年增长8%。
• 薄膜沉积设备需求增长：2017-2020年全球薄膜沉积设备市场规模年复合增长率达11.2%，预计2022年达230亿美元。
• CVD设备市场结构：CVD设备市场中，等离子体CVD（PECVD）和ALD设备将成为主要增长点。

总结

拓荆科技作为国内薄膜沉积设备龙头，凭借核心技术优势和产品矩阵拓展，持续受益于国产替代和晶圆产能扩张。公司研发投入高，技术领先，产品性能追平国际水平，客户资源优质，未来有望在多个设备领域实现快速增长，成为半导体设备国产化进程中的重要参与者。