电子行业深度报告:半导体设备国产突破正加速,晶圆线新建及产业转移带来机遇-200430_74页__3mb
报告摘要
半导体设备国产突破正加速,晶圆线新建及产业转移带来机遇
核心内容概述
随着半导体行业进入新一轮增长周期,国产设备替代进程加快,尤其是在晶圆制造和封装测试环节。大陆地区作为全球半导体设备需求增长的主要驱动力,未来三年将新建多条晶圆线,带来年均千亿元的设备需求。本土设备商在多个关键环节实现突破,部分产品已进入28nm及以下制程,并在部分领域接近或达到国际水平。半导体设备国产化率提升,成为推动本土产业链发展的重要力量。
主要观点
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行业周期与国产替代趋势:2020年半导体行业景气度虽受疫情和贸易环境影响,但整体周期上行趋势未变。5G商业化推动终端和功能需求增长,带动半导体元件量价提升。中长期来看,国产替代趋势明确,设备和材料环节将成为受益主体。
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设备国产化现状:2019年全球半导体设备市场规模约576亿美元,大陆占比22.4%,但泛半导体设备国产化率仅16%,IC设备国产化率仅5%。刻蚀、镀膜、清洗设备国产化率较高,超过15%,而光刻、离子注入、量测设备仍存在较大差距。
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晶圆制造设备:晶圆制造环节设备占整体设备投资的80%,其中光刻、刻蚀、镀膜设备占比较高。随着大陆晶圆产线建设提速,设备厂商将受益于本土配套机会。28nm及以上制程设备已实现批量供应,14nm逐步验证,未来有望在先进制程中扩大市场份额。
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封装测试设备:封装设备在高端领域逐步突破,测试分选设备国产化率提升明显,长川科技、华峰测控等企业已取得一定市场份额。
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硅片制造设备:6-8寸硅片设备国产化率较高,12寸设备国产化率较低,但随着12寸产线建设,相关设备需求将逐步释放。
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投资机会:重点推荐北方华创、中微公司、盛美、至纯科技、上海微电子、华海清科、中科信、屹唐、沈阳拓荆、芯源微、上海精测、上海睿励、长川科技、华峰测控、华兴源创、晶盛机电等企业。
关键信息
1. 晶圆制造环节
- 设备需求:2019年全球晶圆制造设备投资约456亿美元,大陆占比约28.5%。
- 国产化率:刻蚀、镀膜、清洗设备国产化率较高,光刻、离子注入、量测设备仍较低。
- 技术突破:28nm产线设备已批量供应,14nm逐步验证,部分设备已进入台积电、中芯国际等高端产线。
- 未来趋势:随着12寸产线建设加速,设备需求将集中于28nm及以上制程,未来三年设备需求预计超千亿元。
2. 封装测试环节
- 封装设备:国内封装设备从传统向高端突破,全环节配套能力仍需提升。
- 测试分选设备:长川科技、华峰测控等企业逐步突破,高端产品正在布局。
- 市场空间:封装设备市场空间约130亿,测试设备市场空间约102亿。
3. 硅片制造环节
- 设备国产化:6-8寸硅片设备已实现自给,12寸设备国产化率较低。
- 投资情况:大陆硅片制造投资主要集中在12寸线,未来将带动相关设备需求。
4. 设备厂商表现
- 营收增速:多数国内设备公司2016-2019年营收复合增速超30%。
- 投资布局:国家集成电路产业基金一期已对部分设备公司进行股权投资,二期将进一步扩大扶持范围。
- 重点企业:北方华创、中微公司、盛美、至纯科技、上海微电子、华海清科、中科信、屹唐、沈阳拓荆、芯源微、上海精测、上海睿励、长川科技、华峰测控等企业具备较强竞争力。
风险提示
- 行业景气度波动
- 国产设备突破不及预期
- 晶圆产线投入波动
投资建议
- 关注重点:刻蚀、镀膜、清洗设备厂商,如北方华创、中微公司、盛美、至纯科技。
- 看好趋势:28nm及以上制程设备国产替代空间大,14nm设备逐步上量。
- 技术突破:光刻、离子注入、量测设备仍有较大提升空间,未来有望突破。
总结
半导体设备国产替代进程正在加速,晶圆产线建设为国内设备厂商提供了重要机遇。刻蚀、镀膜、清洗设备已实现较高国产化率,光刻、离子注入、量测设备仍有较大差距。随着大陆晶圆产能提升,设备需求将显著增加,相关厂商有望在中长期实现快速增长。投资建议关注具备技术实力和市场份额的本土设备商。
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