20260823-东吴证券-拓荆科技-688072.SH-2026年中报点评_业绩高速增长_薄膜_先进封装设备加速放量_3页_468kb

拓荆科技（688072）2026年中报总结

核心内容概述

拓荆科技在2026年上半年实现了业绩的高速增长，营业收入和归母净利润同比大幅上升，显示出公司在薄膜沉积与先进封装设备领域的强劲发展势头。公司主要依靠先进产品的批量验证、业务规模扩大以及成本控制等因素推动业绩提升，同时加大研发投入以持续推动技术创新。

主要观点

• 业绩表现强劲：2026H1公司营业收入达29.13亿元，同比增长49.1%；归母净利润为13.43亿元，同比增长1324.1%，主要得益于规模效应、成本下降及交易性金融资产收益增加。
• 盈利能力显著提升：2026H1毛利率为41.0%，同比提升9.0个百分点；销售净利率为45.4%，同比提升41.2个百分点；期间费用率同比下降4.4个百分点，显示公司成本控制和运营效率提升。
• 产品放量加速：公司在PECVD、ALD及先进封装设备领域均取得显著进展，多款先进工艺设备通过客户验证并实现量产，推动业务增长。
• 研发投入持续增加：2026H1研发投入达4.23亿元，同比增长21.1%，显示公司对技术创新的重视。
• 财务预测上调：考虑到国产算力需求旺盛及设备国产化率提升，公司2026-2028年归母净利润预测分别为19.9亿、27.9亿、38.5亿元，对应动态PE分别为98X、70X、51X，维持“买入”评级。

关键信息

财务数据概览

营收与利润结构

• Q2单季表现：营业收入18.00亿元，同比增长44.6%，环比增长61.9%；归母净利润7.72亿元，同比增长220.1%，环比增长35.3%。
• 盈利能力：
  • 2026H1毛利率41.0%，同比提升9.0个百分点；
  • 销售净利率45.4%，同比提升41.2个百分点；
  • 期间费用率27.5%，同比下降4.4个百分点。

产品与市场进展

• PECVD设备：
  • 多款先进工艺设备（如ONO叠层、ACHM系列、OPN、SiB等）持续扩大量产规模；
  • α-Si工艺设备已通过先进逻辑客户的验证；
  • 新平台PF-300L及nX、kX反应腔产品已出货至客户端。
• ALD设备：
  • 多台SiO2、SiN、SiCO、TiO等工艺设备通过客户验证并实现量产；
  • Thermal-ALD设备拓展至AlN、Al2O3、LaO、TiON等先进工艺；
  • 客户端完成重复订单验收，量产规模持续增长。
• 先进封装设备：
  • 新一代高速高精度晶圆对晶圆混合键合产品Dione300eX验证进展顺利；
  • 晶圆对晶圆熔融键合产品Dione300FeX已出货至不同客户验证。

资产与负债情况

现金流与经营情况

• 合同负债：2026H1达51.31亿元，同比增长13.1%；
• 存货：2026H1达88.33亿元，同比增长6.1%；
• 经营活动现金流：2026H1为1.15亿元，同比下降92.6%；
• Q2经营活动现金流：6.35亿元，同比下降59.2%，但环比转正。

风险提示

• 下游需求波动风险；
• 国产化率提升不及预期的风险。

投资建议

公司维持“买入”投资评级，预计未来6个月个股表现将优于基准（沪深300指数）15%以上。

数据来源

• Wind
• 东吴证券研究所

附注

本报告仅限专业投资者使用，不面向普通投资者发布。投资决策应基于全面分析，本报告不构成投资建议。