异质结设备行业深度研究报告：HJT产业化“助推器”，提效降本潜力可期_26页_2mb
报告摘要
异质结设备行业深度研究报告总结
核心内容
HJT（异质结）技术被视为下一代主流光伏电池技术，其具有高转换效率、高双面率、优异的弱光性能、良好的光照稳定性、低温度系数以及无PID现象等优势。然而，其产业化面临两大主要挑战：一是转换效率尚未较PERC取得1.5%的效率差优势；二是量产成本相比PERC仍然较高。设备作为解决效率提升和成本下降的关键因素，成为HJT产业化的核心环节。
主要观点
- 设备对HJT产业化的重要性：HJT设备需兼顾量产稳定性和成本竞争力，通过设备与工艺的磨合，实现单台设备产能提升和电池端稳定生产。
- PECVD是核心瓶颈：PECVD设备需在保证镀膜质量的同时提升产能，且硬件成本增加幅度应小于产能提升幅度。设备厂商通过等离子体反应器、射频系统等关键环节的优化，持续提升设备性能。
- PVD技术相对成熟：PVD工艺较为稳定，设备成本较低，但其国产化降本空间有限，未来需通过靶材优化提升转换效率。
- 国产设备降本潜力大：当前HJT已实现整线国产化，国产设备在性能优化和进口零部件国产化方面有较大提升空间，且单GW投资成本已显著低于进口设备。
- 投资建议：推荐迈为股份、捷佳伟创，建议关注金辰股份等国产设备厂商，认为其与下游厂商的合作将推动HJT产业化。
关键信息
HJT设备产业化趋势
- 效率提升：HJT平均量产效率已接近24%，相比PERC高约1.5%。
- 成本下降：国产设备单GW投资成本已降至5~6亿元，预计未来将进一步降低。
- 国产化进展：国产设备厂商在PECVD和PVD领域取得显著进展，设备性能与进口设备相比已具备竞争力。
PECVD技术发展
- 静态与动态工艺：静态工艺运行稳定但成本高、产能低；动态工艺成本低、产能高但对薄膜质量影响较大。
- 链式与团簇式结构：链式结构便于清洁和扩大产能，但占地面积大；团簇式结构可提升产能，但自动化配套要求高。
- 射频频率选择：RF-PECVD均匀性好但沉积速率慢；VHF-PECVD沉积速率高但薄膜均匀性差。
- 设备厂商表现：
- Meyer Burger：采用盒中盒式结构和在线清洗技术，提升钝化质量。
- INDEOtec：Mirror技术与ACCT技术，实现双面沉积与高效率。
- 理想万里晖：抽屉式反应腔结构，提升产能和工艺灵活性。
- 钧石能源：模块化设计，提高稳定性与靶材利用率。
- 迈为股份：准动态镀膜工艺，实现高产能与稳定生产。
- 捷造光电：inline线列式系统，提升沉积效率与稳定性。
PVD技术发展
- 工艺成熟度：PVD工艺较为成熟，可实现双面沉积，且自动化配套设施完善。
- 靶材优化：ITO和IWO靶材的优化对提升电池转换效率有重要影响，低锡含量靶材表现更优。
- 设备厂商表现：
- 冯阿登纳：模块化结构，可灵活选择溅射方向，提升沉积质量。
- Singulus：采用旋转磁控管，提高靶材利用率与沉积效率。
- 钧石能源：双旋转靶设计，提高靶材利用率与沉积稳定性。
- 捷佳伟创：获得住友RPD授权，自主研发RPD5500A设备，实现高效率与低碎片率。
- 捷造光电：定制磁场设计，提升镀膜质量与靶材利用率。
投资逻辑
- HJT设备是产业化关键：通过设备性能提升与国产化，推动HJT实现效率与成本优势。
- PECVD与PVD是核心环节：PECVD需在镀膜质量与产能间取得平衡；PVD则需通过靶材优化提升转换效率。
- 国产设备具备竞争力：国产设备在成本、性能等方面已接近或超越进口设备，具备显著的降本潜力。
风险提示
- 异质结产业化进展不及预期：技术推广和市场接受度存在不确定性。
- 装备国产化进度不及预期：关键零部件国产化进程可能滞后，影响整体成本下降。
重点公司盈利预测与估值
| 简称 | 股价（元） | EPS（2020E） | EPS（2021E） | EPS（2022E） | PE（2020E） | PE（2021E） | PE（2022E） | PB | 评级 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 迈为股份 | 377.33 | 6.39 | 8.50 | 11.03 | 59.1 | 44.4 | 34.2 | 14.4 | 推荐 |
| 捷佳伟创 | 97.14 | 1.80 | 2.50 | 3.24 | 53.6 | 42.7 | 32.9 | 12.2 | 推荐 |
行业数据
| 项目 | 数值 | 占比% |
|---|---|---|
| 股票家数（只） | 82 | 2.02 |
| 总市值（亿元） | 20,674.96 | 2.55 |
| 流通市值（亿元） | 15,036.18 | 2.53 |
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图表目录
- 图表1：单晶PERC电池量产效率
- 图表2：国内外异质结产线效率进展
- 图表3：异质结电池结构示意图
- 图表4：HJT电池工艺流程
- 图表5：国产PECVD和PVD设备单GW投资相比进口设备大幅降低
- 图表6：HJT电池生产工序及工艺设备厂商
- 图表7：板式PECVD示意图
- 图表8：静态与动态PECVD比较
- 图表9：Meyer Burger链式PECVD（HELiAPECVD）
- 图表10：理想万里晖双真空系统
- 图表11：理想万里晖U型PECVD（OAK-U-5）
- 图表12：INDEOtec OCTOPUS II系统
- 图表13：链式与团簇式PECVD比较
- 图表14：RF-PECVD与VHF-PECVD比较
- 图表15：Meyer Burger HELiAPECVD实物图
- 图表16：Meyer Burger HELiAPECVD系统流程图
- 图表17：INDEOtec PECVD Mirror反应器示意图
- 图表18：INDEOtec OCTOPUS系列产品比较
- 图表19：应用材料AKT®-PECVD系列
- 图表20：理想万里晖Pine-M-R-5实物图
- 图表21：理想万里晖OAK-DU-5
- 图表22：理想万里晖PECVD产品对比
- 图表23：捷造光电HJT PECVD主要性能参数
- 图表24：各公司PECVD设备技术汇总
- 图表25：各公司PECVD设备性能汇总
- 图表26：PVD和RPD原理图
- 图表27：冯阿登纳XEA|nova系列产品示意图
- 图表28：冯阿登纳PVD设备比较
- 图表29：Singulus的GENERIS PVD
- 图表30：GENERIS PVD系统模块化结构具有高度的灵活性
- 图表31：GENERIS PVD系统设备比较
- 图表32：梅耶博格PVD系统流程图
- 图表33：梅耶博格HELiAPVD示意图
- 图表34：钩石能源PVD
- 图表35：捷佳伟创RPD5500A
- 图表36：捷造光电HJT用PVD主要性能参数
- 图表37：各公司TCO薄膜沉积设备性能总结
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