20260822-东吴证券-中微公司-688012.SH-2026年中报点评_业绩高速增长_平台化布局加速成型_3页_470kb
报告摘要
中微公司(688012)2026年中报总结
核心内容
中微公司2026年上半年业绩实现高速增长,受益于下游扩产需求和设备国产化进程的加速。公司营收和净利润均大幅增长,同时持续推进平台化布局,覆盖刻蚀、薄膜沉积、量检测及湿法设备等多个核心工艺领域。
主要观点
业绩表现
- 2026H1营收:66.91亿元,同比增长34.9%。
- 2026H1归母净利润:28.25亿元,同比增长300.2%,其中包含出售拓荆科技股票产生的投资收益约9.53亿元。
- 2026Q2单季营收:37.76亿元,同比增长35.5%,环比增长29.5%。
- 2026Q2归母净利润:18.95亿元,同比增长382.3%,环比增长103.6%。
- 扣非归母净利润:2026H1为11.23亿元,同比增长108.4%;2026Q2为6.45亿元,同比增长168.2%。
盈利能力
- 毛利率:2026H1为39.7%,同比略有下降0.1个百分点;2026Q2为39.6%,同比上升1.1个百分点。
- 销售净利率:2026H1为41.8%,同比提升28.0个百分点;2026Q2为49.8%,同比提升36.2个百分点。
- 期间费用率:2026H1为27.6%,同比下降2.1个百分点。
研发投入
- 2026H1研发投入:20.41亿元,同比增长36.9%,占营收比例达30.51%。
- 研发费用:13.10亿元,同比增长17.3%。
- 公司保持高强度研发投入,持续推动技术迭代与产品创新。
关键信息
平台化布局
中微公司产品已覆盖超30%的前道设备市场,计划未来五年内实现对60%以上集成电路高端设备市场和70%以上的先进封装设备市场的覆盖。
- 刻蚀设备:
- CCP设备:下一代超高深宽比介质刻蚀设备即将上市;Alpha机完成实验室马拉松测试,Beta机在客户端验证顺利。
- ICP设备:低温高深宽比ICP刻蚀设备已在客户下一代产品产线上稳定量产;高选择比气相刻蚀设备完成多项工艺验证。
- 薄膜沉积设备:
- 钨系列CVD/HAR/ALD设备通过关键客户端现场验证,获得重复订单。
- ALD、PVD等设备交付多个先进逻辑和存储客户,验证进展顺利。
- 量检测设备:
- 子公司超微公司重点开发电子束量检测设备,有望进入客户端验证。
- 湿法设备:
- 完成对中微众硅的收购,切入CMP湿法设备领域,已导入多家头部客户。
- 先进封装设备:
- 2.5D、SoICWoW及高深宽比深槽电容刻蚀设备持续获得重复订单。
- 第三代TSV刻蚀机已获多家客户订单,即将发往客户端验证。
- TSVCuBSPVD集成设备开发顺利,UBMPVD集成设备研发启动。
财务预测与估值
- 2026-2028年归母净利润预测:40.4/49.0/58.8亿元,分别同比增长91.51%、21.13%、20.13%。
- 2026-2028年动态PE:85.87/70.89/59.01倍。
- 维持“买入”投资评级:基于行业高景气度和公司平台化布局的持续推进。
财务数据
- 2026年收盘价:362.50元。
- 市净率(P/B):11.50倍。
- 流通A股市值:341,546.43百万元。
- 总市值:347,217.85百万元。
- 每股净资产:31.53元。
- 资产负债率:19.73%。
- 总股本:957.84百万股。
- 流通A股:942.20百万股。
财务预测表
| 项目 | 2025A | 2026E | 2027E | 2028E |
|---|---|---|---|---|
| 营业总收入(百万元) | 12,385 | 21,064 | 25,491 | 30,011 |
| 归母净利润(百万元) | 2,111 | 4,044 | 4,898 | 5,884 |
| 毛利率(%) | 39.17 | 40.38 | 40.60 | 40.89 |
| 归母净利率(%) | 17.05 | 19.20 | 19.21 | 19.61 |
| P/E(现价&最新股本摊薄) | 164.44 | 85.87 | 70.89 | 59.01 |
| P/B(现价) | 10.00 | 8.49 | 7.17 | 6.05 |
| ROE-摊薄(%) | 9.30 | 15.12 | 15.48 | 15.68 |
| ROIC(%) | 6.36 | 9.35 | 9.87 | 10.84 |
风险提示
- 下游扩产节奏不及预期;
- 新产品研发与产业化进度不及预期。
投资评级说明
东吴证券维持“买入”评级,基于以下因素:
- 存储行业上市扩产;
- 国产算力需求旺盛;
- 设备国产化率提升;
- 行业整体高景气度。
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