20130906-东吴证券-苏大维格-300331.SZ-微纳制造蓝图初绘_价值仍被低估_24页_1mb

苏大维格（300331）深度报告总结

核心内容

苏大维格是一家专注于微纳制造技术的公司，其核心技术包括激光直写光刻、激光干涉光刻和微纳米压印。公司已形成“研发团队—设备研制—应用开发”的完整技术平台，并在多个领域展现其技术实力与市场潜力。

主要观点

1. 微纳制造平台优势强化

   • 公司依托苏州纳米协同创新中心和国家地方联合工程中心，进一步巩固了其在微纳制造领域的领先地位。
   • 纳米压印设备NanoEmbosser和激光直写光刻设备iGrapher展示了公司在高端制造装备上的强大能力。
   • 通过纳米压印技术，公司能够制造出具备高透光率和低方阻的柔性透明导电膜，为触控技术提供了新的解决方案。

2. 柔性透明导电膜成为最大看点

   • 公司获得了透明导电膜专利授权，标志着其在非ITO导电膜领域取得重要突破。
   • 柔性透明导电膜（TCF）具备高透明、低方阻、大尺寸、柔性化和成本可控等优势，相较于ITO材料更具竞争力。
   • 随着触控技术的广泛应用，特别是中大尺寸产品的需求增长，TCF市场前景广阔。

3. 技术经济性优势显著

   • 公司的纳米银网格透明导电膜在性能上优于其他非ITO方案，例如其方阻低于10Ω/□，透光率超过88%。
   • 相比于ITO，公司产品在成本和制造工艺上更具优势，例如无需黄光工艺，支持卷对卷生产。

4. 股权激励彰显长期信心

   • 公司发布股权激励方案，向62名管理和研发人员授予310万份股票期权，行权价格为44.16元。
   • 股权激励计划设定了明确的绩效考核目标，体现了管理层对公司未来发展的信心。

关键信息

盈利预测与估值

• 营业收入：预计2013~2015年分别为29570万元、48890万元和80840万元。
• 净利润：预计2013~2015年分别为36800万元、75700万元和148900万元。
• 每股收益：预计2013~2015年分别为0.59元、1.22元和2.40元。
• 市盈率（P/E）：预计2013~2015年分别为74.43倍、36.16倍和18.38倍。
• 市净率（P/B）：预计2013~2015年分别为5.55倍、4.91倍和4.00倍。

技术优势

• 纳米压印技术：公司已掌握纳米压印技术，并将其应用于透明导电膜的制造。
• 激光直写光刻：公司拥有无掩膜紫外激光图形化直写系统，具备高精度和灵活性。
• 专利技术：公司获得了透明导电膜专利授权，进一步巩固其在该领域的技术优势。

市场前景

• 触控市场：触控渗透率持续上升，中大尺寸触屏需求增长显著。
• TCF市场：预计到2017年，仅平板显示和有机发光显示等高端应用对TCF的需求将达到5亿平方米，市场规模将大幅增长。

风险提示

• 产业化不达预期：显示照明产品的产业化进展可能不如预期，影响公司业绩。

投资评级

• 公司投资评级：维持“强烈推荐”评级。
• 理由：公司在微纳制造领域的技术领先优势明显，消费电子和照明领域的市场空间广阔，未来增长潜力大。

结论

苏大维格凭借其强大的微纳制造平台和创新技术，正在引领柔性透明导电膜的发展趋势。公司在技术、成本和市场拓展方面均展现出强劲的竞争力，未来有望在多个领域实现业绩增长。公司通过股权激励进一步彰显了其对未来的信心，值得长期关注。